【国家知识产权局：推动《集成电路布图设计保护条例》修改适应超大规模集成电路发展需要】

来源：宇清时间：2025-09-05 15:25:28

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【国家知识产权局：推动《集成电路布图设计保护条例》修改适应超大规模集成电路发展需要】9月5日，国家知识产权局举行9月例行新闻发布会。国家知识产权局新闻发言人、办公室副主任杜玉表示，抓好法规修改。一是加快推动商标法修改，强化商标使用义务、加强驰名商标跨类保护、强化商标代理行业监管，更大力度规制商标恶意抢注和囤积行为。二是推动《集成电路布图设计保护条例》修改，适应超大规模集成电路发展需要，与专利保护、商业秘密保护等一起，形成对集成电路布图设计的立体化保护新格局。

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